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半導體照明 LED
  采用氮化鎵基發光二極管作為光源的半導體照明技術,以其節能、高效、壽命長等優點被廣泛應用于照明、大屏幕顯示、指示燈、背光源等領域,其技術發展迅速、應用領域廣泛、產業帶動性強、節能潛力大,被公認為最有發展前景的高效照明產業。在LED領域,ICP刻蝕機自面市以來已經實現了兩百臺的銷售突破,其中GaN刻蝕機新增市占率超過80%,成為行業標桿機型;自主開發的應用于LED制程的AlN緩沖層沉積設備,引領LED領域技術發展,憑借其優越的性能,成為客戶最信賴的技術創新產品。
等離子刻蝕設備 Etcher
物理氣相沉積設備 PVD
化學氣相沉積設備 CVD
清洗設備 Cleaning Tool
輔助設備 Facility
氣體測量控制 Gas Measuring Control
原子層沉積設備ALD
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