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物理氣相沉積設備 PVD
  磁控濺射技術屬于PVD(物理氣相沉積)技術的一種,是制備薄膜材料的重要方法之一。它是利用帶電荷的粒子在電場中加速后具有一定動能的特點,將離子引向被濺射的物質制成的靶電極(陰極),并將靶材原子濺射出來使其沿著一定的方向運動到襯底并最終在襯底上沉積成膜的方法。磁控濺射設備使得鍍膜厚度及均勻性可控,且制備的薄膜致密性好、粘結力強及純凈度高。該技術已經成為制備各種功能薄膜的重要手段。   北方華創微電子突破了濺射源設計技術、等離子產生與控制技術、顆粒控制技術、腔室設計與仿真模擬技術、軟件控制技術等多項關鍵技術,建立了具有自主知識產權的核心技術優勢,形成了國產集成電路領域高端薄膜制備設備零的突破,設備應用跨越90納米至14納米的多個技術代,代表著國產集成電路薄膜制備工藝設備的最高水平,并成功進入國際供應鏈體系。   北方華創微電子先后在集成電路、先進封裝、LED等領域研制了具有自主知識產權的13款PVD產品并成功產業化,從2012年首臺設備銷售至今,已實現超過200臺設備銷售,總計超過800萬片量產。
集成電路 IC
先進封裝 Advanced Packaging
科研設備 R&D Equipment
微機電系統 MEMS
半導體照明 LED
功率器件 Power Devices
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