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EPEE550 等離子化學氣相沉積系統 EPEE550 PECVD System
  EPEE550 PECVDLED芯片和復合襯底制程的關鍵設備之一,廣泛應用于LED藍綠光和紅黃光器件的SiOSiNx介質膜沉積,以及PSS復合襯底SiO厚膜的高速沉積。通過419片載盤、大功率在線等離子清洗、高均勻性控制、高低速率調控等專有設計,產品已被LED客戶廣泛接受并大規模量產,是LED領域客戶擴產優選設備。同時該設備支持高均勻性、低應力SiNx薄膜沉積,可應用于第三代半導體功率器件的研發及量產。

應用領域:

??LED、PowerMEMS


適用工藝:

??LED領域SiO2SiNxSiON薄膜,Power領域SiNx薄膜


產品優勢:

  • 兼容2~8英寸及特殊尺寸襯底晶圓。
  • 支持SiO2SiNxSiON薄膜高、低速沉積工藝。
  • 高產能設計,單盤放片數量273片,419片,68片。
  • 大功率在線等離子清洗,相比同類設備清洗速率提升20%
  • 優異的薄膜均勻性和應力控制,滿足power器件高質量工藝要求。
  • 集成多項人性化軟件操作功能。










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